上个月，佳能发布了一款命名为FPA-1200NZ2C的纳米压印半导体制作设备，声称最先进的半导体技能现已经过纳米压印光刻（NIL）完结。但是，近来，佳能CEO三井富士夫在接受采访时标明，该设备无法出口到我国。

    20世纪90年代出现了纳米压印技能，其基本原理是运用纳米图画模板压在聚合物上成型，然后完结纳米图画加工。这种办法对光学系统的分辨率影响不大，而且可以突破光的衍射极限。差分放大电路厂家代理

    据报道，纳米压印技能采用了一种不同于传统投影曝光技能的办法来形成电路图画。佳能标明，这种设备不只耗电更少、环境友善更高，而且本钱远低于目前的 ASML EUV 光刻机。佳能标明，未来将扩展其半导体设备系列，以满足广泛的市场需求。

    最早的纳米压印，是用一块小面积的扁平版面，一次我国又一次的逐级压印。微纳光学和光电信息产业对大标准以及器材的运用发展要求企业日益得到清楚，研讨大标准、高精度、高精度、高精度、高精度的加工处理技能问题已成为一个必定。

    佳能（Canon）正在东京北部的宇都宫建设一家工厂，该公司正在运用纳米压印技能大规模出产 DRAM 和个人电脑中运用的 CPU 等逻辑芯片，以及 nAND。未来，佳能期望将其用于先进的手机处理器，以供给更多的合同制作商，进一步蚕食阿斯麦的市场份额。国产eMMc

    纳米压印光刻广泛用于电子学，例如复合塑料电子学、有机光电器材、红外纳米电子器材、光子学，例如有机激光器材、共轭光子、非线性光学聚合物纳米结构、高分辨率有机发光二极管、衍射光学元件、宽带偏振器、磁性器材，例如高密度图画化磁介质和高容量光盘，以及生物学，例如DNA纳米流体通道、纳米级蛋白质捕获和对细胞的纳米结构效应。

    佳能首席执行官三井富士（Fujio Mitsui）在最近的一次采访中也标明，佳能或许无法向我国出口芯片制作设备: “我的了解是，任何超过14纳米的技能出口都是被阻止的，所以我不认为咱们可以出售它。”

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